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Einzelheiten zu den Produkten

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Hiwin-Linearführung
Created with Pixso. Hochpräzise WEW21CC Linearführung, glatt, für Halbleiterfertigungsanlagen

Hochpräzise WEW21CC Linearführung, glatt, für Halbleiterfertigungsanlagen

Markenname: HIWIN
Modellnummer: WEW21CC
Mindestbestellmenge: 10
Preis: 1-100 USD
Lieferzeit: 1-7 Arbeitstage
Zahlungsbedingungen: T/T, L/C, D/A, D/P, Western Union
Detailinformationen
Herkunftsort:
China Taiwan
Zertifizierung:
DE1924083895474
Serie:
Wir
Modellgröße (mm):
21 mm
Anzahl der Blöcke pro Schiene:
1
Eisenbahnmontageart:
R- Anbau von oben
Schienenlänge (mm):
max 4000 mm
Vorspannklasse:
Z0-sehr leichte Vorladung, ZA-leichte Vorladung, ZB-mittlere Vorladung
Material:
SNCM220 Kohlenstoffstahl
Staubschutz:
SS-Standard
Y-Symmetrisch (E1=E2) Abmessung des ersten Lochs:
Y= Symmetrisch (E1=E2)
Installation:
Einfach
Anwendung:
Automatisierungsgeräte
Glätte:
Glatt
Verpackung Informationen:
Klein oder mit Karton, Großbestellung mit Holzkiste
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
100.000 Stück / pro Monat
Hervorheben:

Hochpräzise WEW21CC Linearführung

,

Hochpräzises Hiwin Linear-Lager

,

Glatte WEW21CC Linearführung

Produktbeschreibung
①HIWIN WEW21CC Linearführung für Halbleiterfertigungsanlagen                 

     Die HIWIN WEW21CC Linearführung ist eine hochpräzise Bewegungskomponente, die entwickelt wurde, um den extremen Anforderungen der Halbleiterfertigung gerecht zu werden, wo Genauigkeit im Nanometerbereich, Kontaminationskontrolle und unermüdliche Zuverlässigkeit unabdingbar sind. Diese Führung, die für die Integration in kritische Wafer-Handhabungssysteme, Lithografieanlagen und Inspektionsmaschinen konzipiert wurde, gewährleistet eine ultra-sanfte, vibrationsfreie Bewegung, um mikroskopische Defekte zu verhindern, die die Chipausbeute beeinträchtigen könnten. Ihre fortschrittliche Dichtungstechnologie minimiert die Partikelentstehung — ein entscheidendes Merkmal in Reinraumumgebungen, in denen selbst Submikronpartikel empfindliche Fertigungsprozesse stören können. Die starre Konstruktion der WEW21CC behält die Stabilität unter dynamischen Lasten bei und gewährleistet eine konsistente Ausrichtung bei Hochgeschwindigkeits-Positionierungsaufgaben wie Fotomaskenausrichtung oder Die-Bonding, wo die Präzision die Produktionseffizienz direkt beeinflusst. Optimiert für geringe Ausgasung und Korrosionsbeständigkeit, arbeitet sie zuverlässig in vakuumkompatiblen und chemisch aggressiven Halbleiterverarbeitungsbedingungen. Der reibungsoptimierte Rollmechanismus der Führung erhöht die Energieeffizienz und reduziert gleichzeitig den Verschleiß, was den Dauerbetrieb in 24/7-Halbleiterfabriken mit minimalen Wartungsausfallzeiten unterstützt. Kompatibel mit fortschrittlichen Bewegungssteuerungssystemen ermöglicht sie eine Submikron-Wiederholgenauigkeit für Prozesse wie Lasertrennen, Metrologie-Scannen und Präzisionsmontage — wo jede Nanometerabweichung die Geräteperformance beeinträchtigen kann. Ob in der Frontend-Waferverarbeitung oder in Backend-Verpackungssystemen eingesetzt, die WEW21CC liefert die leise, sanfte und stabile Bewegung, die erforderlich ist, um die unnachgiebigen Toleranzen der Halbleiterfertigung der nächsten Generation aufrechtzuerhalten. Durch die Integration dieser Linearführung können Gerätehersteller den Durchsatz erhöhen, die Risiken der Partikelkontamination reduzieren und die Wartungsintervalle verlängern — wichtige Vorteile in einer Branche, in der die Geräteverfügbarkeit und die Ausbeuteoptimierung den Wettbewerbsvorteil definieren. Für Halbleiteranwendungen, die kompromisslose Präzision in den am besten kontrollierten Umgebungen erfordern, ist die HIWIN WEW21CC ein entscheidender Ermöglicher der fortschrittlichen Chip-Produktion.②Zeichnung der WEW21CC

③Modellnummer der WE-Serie
Hochpräzise WEW21CC Linearführung, glatt, für Halbleiterfertigungsanlagen 0
④Konstruktion der WE-Serie
 
Hochpräzise WEW21CC Linearführung, glatt, für Halbleiterfertigungsanlagen 1
1.
Hochpräzise WEW21CC Linearführung, glatt, für Halbleiterfertigungsanlagen 2
Rollzirkulationssystem: Block, Schiene, Endkappe und Halterung2. Schmiersystem: Schmiernippel und Rohrverbindung3. Staubschutzsystem: Enddichtung, Bodendichtung, Kappe und Abstreifer.
⑤Merkmale der WE-Serie
Die WE-Serie zeichnet sich durch gleiche Tragzahlen in radialer, umgekehrter radialer und lateraler Richtung mit Kontaktpunkten bei 45 Grad aus. Dies ermöglicht zusammen mit der breiten Schiene, dass die Führung für hohe Lasten, Momente und Steifigkeit ausgelegt ist. Durch das Design verfügt sie über eine selbstausrichtende Fähigkeit, die die meisten Installationsfehler absorbieren kann und hohe Genauigkeitsstandards erfüllen kann. Die Möglichkeit, eine einzelne Schiene zu verwenden und ein niedriges Profil mit einem niedrigen Schwerpunkt zu haben, ist ideal, wenn der Platz begrenzt ist und/oder hohe Momente erforderlich sind.
 
Foto des tatsächlichen Produkts
 

Messzeichnung

Hochpräzise WEW21CC Linearführung, glatt, für Halbleiterfertigungsanlagen 3

 
HIWIN-Serie⑨Top-Produktempfehlung
Hochpräzise WEW21CC Linearführung, glatt, für Halbleiterfertigungsanlagen 4
 
Hochpräzise WEW21CC Linearführung, glatt, für Halbleiterfertigungsanlagen 5
 
Hochpräzise WEW21CC Linearführung, glatt, für Halbleiterfertigungsanlagen 6
 
Hochpräzise WEW21CC Linearführung, glatt, für Halbleiterfertigungsanlagen 7