Bom preço.  on-line

Detalhes dos produtos

Created with Pixso. Para casa Created with Pixso. produtos Created with Pixso.
Guia Linear Hiwin
Created with Pixso. Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão e Suavidade para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores

Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão e Suavidade para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores

Nome da marca: HIWIN
Número do modelo: WEW21CC
Quantidade mínima: 10
Preço: 1-100 USD
Prazo de entrega: 1-7 dias de trabalho
Condições de pagamento: T/T, L/C, D/A, D/P, Western Union
Informações Detalhadas
Lugar de origem:
China Formosa
Certificação:
DE1924083895474
Série:
Nós
Tamanho do Modelo (mm):
21 mm
Número de Blocos por Trilho:
1
Tipo de Montagem em Trilho:
Montagem R - De Cima
Comprimento do carril ((mm):
máximo de 4000mm
Classe de pré-carga:
Precarga Z0-muito leve, Precarga ZA-leve, Precarga ZB-média
Material:
Aço Carbono SNCM220
Protecção contra o pó:
Padrão SS
Y - simétrico (E1=E2) Dimensão do primeiro buraco:
Y= simétrico (E1=E2)
Instalação:
Fácil
Aplicação:
Dispositivos de automação, máquinas de moldagem por sopro, equipamento de medição de precisão
Suavidade:
Suave
Detalhes da embalagem:
Pequeno ou com caixa de papelão, pedido em grandes quantidades com caixa de madeira
Habilidade da fonte:
100.000 unidades/por mês
Destacar:

Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão

,

Rolamento linear hiwin de alta precisão

,

Guia Linear WEW21CC Suave

Descrição do produto
①Guia Linear HIWIN WEW21CC para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores                 

     Guia Linear HIWIN WEW21CC é um componente de movimento de alta precisão projetado para atender às exigências extremas da fabricação de semicondutores, onde precisão em nível de nanômetro, controle de contaminação e confiabilidade implacável são inegociáveis. Projetada para integração em sistemas críticos de manuseio de wafers, equipamentos de litografia e máquinas de inspeção, esta guia garante um movimento ultra-suave e livre de vibrações para evitar defeitos microscópicos que poderiam comprometer o rendimento dos chips. Sua tecnologia avançada de vedação minimiza a geração de partículas—uma característica crucial em ambientes de sala limpa, onde mesmo partículas sub-micron podem interromper processos de fabricação delicados. A construção rígida da WEW21CC mantém a estabilidade sob cargas dinâmicas, garantindo um alinhamento consistente em tarefas de posicionamento de alta velocidade, como alinhamento de fotomáscaras ou ligação de matrizes, onde a precisão impacta diretamente a eficiência da produção. Otimizada para baixa emissão de gases e resistência à corrosão, ela funciona de forma confiável em condições de processamento de semicondutores compatíveis com vácuo e quimicamente agressivas. O mecanismo de rolamento otimizado por atrito da guia melhora a eficiência energética, reduzindo o desgaste, suportando a operação contínua em fábricas de semicondutores 24 horas por dia, 7 dias por semana, com tempo mínimo de inatividade para manutenção. Compatível com sistemas avançados de controle de movimento, ela permite repetibilidade sub-micron para processos como corte a laser, varredura de metrologia e montagem de precisão—onde cada nanômetro de desvio pode afetar o desempenho do dispositivo. Seja implantada no processamento de wafers front-end ou em sistemas de embalagem back-end, a WEW21CC oferece o movimento silencioso, suave e estável necessário para manter as tolerâncias implacáveis da fabricação de semicondutores de última geração. Ao integrar esta guia linear, os fabricantes de equipamentos podem aumentar a produtividade, reduzir os riscos de contaminação por partículas e estender os intervalos de serviço—vantagens-chave em uma indústria onde o tempo de atividade do equipamento e a otimização do rendimento definem a vantagem competitiva. Para aplicações de semicondutores que exigem precisão intransigente nos ambientes mais controlados, a HIWIN WEW21CC se destaca como um facilitador crítico da produção avançada de chips.②Desenho da WEW21CC

③Número do Modelo da Série WE
Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão e Suavidade para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores 0
④Construção da Série WE
 
Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão e Suavidade para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores 1
1.
Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão e Suavidade para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores 2
Sistema de circulação por rolamento: Bloco, trilho, tampa final e retentor2.Sistema de lubrificação: Bico de graxa e conexão de tubulação3.Sistema de proteção contra poeira: Vedação final, vedação inferior
vedação, tampa e raspador.
⑤Características da série WEA série WE apresenta classificações de carga iguais nas direções radial, radial reversa e lateral com pontos de contato a 45 graus. Isso, juntamente com o trilho largo, permite que a guia seja classificada para altas cargas, momentos e rigidez. Por design, ela possui uma capacidade de autoalinhamento que pode absorver a maioria dos erros de instalação e pode atender a altos padrões de precisão. A capacidade de usar um único trilho e ter o perfil baixo com um baixo centro de gravidade é ideal onde o espaço é limitado e/ou são necessários altos momentos.
 
Foto real do produto
 

Desenho de medição

Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão e Suavidade para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores 3

 
Série HIWIN
Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão e Suavidade para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores 4
 
Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão e Suavidade para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores 5
 
⑨Recomendação de produto principal
Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão e Suavidade para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores 6
 
Guia Linear WEW21CC de Alta Precisão e Suavidade para Equipamentos de Fabricação de Semicondutores 7